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Shallow Trench Isolation ( STI ) Chemical Mechanical Polishing ( CMP ) Process for Advanced Logic Technology view page

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JP2006516362A - 歪みシリコンプロセス用にシャロートレンチ絶縁体を形成するプロセス - Google PatentsFamily view page

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US6737334B2 - Method of fabricating a shallow trench isolation structure - Google PatentsFamily view page

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. 3. From the figure poly-Si shallow trench isolation (STI) is... view page

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US20080258134A1 - Method for making a semiconductor device including shallow trench isolation (sti) regions with maskless superlattice deposition following sti formation and related structures - Google PatentsFamily view page

Chemical Mechanical Planarization of TEOS SiO 2 for Shallow Trench Isolation Processes on an IPEC/Westech 372 Wafer Pol view page

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Vin IC Design: CMOS Inverter (a) Vdd NMOS Vss PMOS Vout Shallow trench isolation view page

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Chemical Mechanical Planarization of TEOS SiO 2 for Shallow Trench Isolation Processes on an IPEC/Westech 372 Wafer Pol view page

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【図解】半導体製造工程の流れ view page

Isolation Techniques – LOCOS & STIDevice Isolation Techniques view page

US6541351B1 - Method for limiting divot formation in post shallow trench isolation processes - Google PatentsFamily view page

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US20050151222A1 - Shallow trench isolation process and structure with minimized strained silicon consumption - Google PatentsFamily view page

US8673738B2 - Shallow trench isolation structures - Google PatentsFamily view page