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産総研,高品質な窒化物半導体薄膜結晶作製法 その他関連ニュースPICK UP話題のセミナー展示会情報転職情報

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IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide) Sputtering Targets
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窒化物半導体薄膜結晶を作製するための新手法を開発-窒素プラズマを供給して世界最高品質を実現-(AIST)

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未来の省エネ材料に新候補、“酸化ガリウム”のトランジスタ動作が初実証:パワー半導体

ニュースイッチ次世代半導体素材「窒化ガリウム」は社会をどう変えるかニュースイッチ

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期待の次世代太陽電池市場、2030年に4500億円規模にまで成長か:太陽光

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高品質で高純度な窒化インジウム薄膜作製に成功――次世代型高周波デバイスとして期待

InPに格子整合したさまざまな組成の合金の屈折率nと波長の関係。 300 K

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EDS-STEM, EELS-STEMによる原子スケールでの元素マッピング

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ゲルマニウム、バナジウム、ガリウム、ハフニウム、インジウム、ニオブ、レニウムのその他ものの輸出動向 HS8112993. 輸出量の推移

メモリとストレージの性質を兼ね備える夢のデバイス「ユニバーサルメモリ」がついに実現か

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心の運動・胃の運動 #6 -BLOGRAFFITI- / Honeyの見たり食べたり…vol.6「オールジャパン」で実用化を急ぐ「酸化ガリウム」の研究開発

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医学部受験を決めたら私立・国公立大学に入ろう!ドットコム理論化学無機化学第7回 アルカリ金属

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