Available on Google PlayApp Store

外端

jeanne6663
がいたん

Meaning

外端 がいたん
noun (common) (futsuumeishi)
nouns which may take the genitive case particle `no'
  • outer edge
  • outer end

Translations

  • outer
  • outer end

Kanji

  • 外
    • onyomiガイ ・ ゲ
    • kunyomiそと ・ ほか ・ はず.す ・ はず.れる ・ と-
    • meaningoutside
      • Print WorksheetDictionary
  • 端
    • onyomiタン
    • kunyomiはし ・ は ・ はた ・ -ばた ・ はな
    • meaningedge; origin; end; point; border; verge; cape
      • Print WorksheetDictionary

Shopping

Images

10nmプロセスの実現に光、EUVリソグラフィ技術に進展：課題は山積だが、着実に前進（2/2 ページ）原子層エッチングがEUVの確率変動を低減：5nmロジックへと導く（2/2 ページ）サイバーニュース【半導体】サムスン、EUVリソグラフィによる7nmチップの製造を開始コメントするIBMが10nm世代を飛び越えて7nmプロセスの半導体チップ試作に成功しムーアの法則が堅持される見込みフォトリソグラフィ6つの工程とは？【半導体プロセス】フォトリソグラフィのいろは　~PEB編~極端紫外線リソグラフィ装置の世界市場規模、シェア、産業動向分析レポート：装置別（光源（レーザー生成プラズマ、真空スパーク、ガス放電）、ミラー、マスク）、地域別展望と予測、2022年～2028年星を見る・宇宙を知る・天文を楽しむ AstroArts天文ニュース太陽探査機「ひので」試験観測画像の公開「SEMICON West 2016」、7nm世代以降のリソグラフィ技術（ニコン編）：福田昭のデバイス通信（86）（2/2 ページ）グレイスケールリソグラフィ＆ワークショップフォトリソグラフィについてフォトリソグラフィナノインプリント・リソグラフィ（NIL）装置「EUV（極端紫外線）」関連の最新 ニュース・レビュー・解説 記事 まとめ撥油フォトレジストの解説と事例紹介7nmプロセスの開発が加速、EUVの導入も現実的に：ファウンドリー各社の動向（1/2 ページ）殺菌用「水銀ランプ」に代わる低コスト「深紫外LED」を開発！いろいろな紫外線「ムーアの法則」の限界を回避できる期待の製造技術「EUVリソグラフィ」とは？極端紫外線レーザーにより熱影響が極めて少ない材料加工を実現極端紫外線レーザーにより熱影響が極めて少ない材料加工を実現2019年のエレクトロニクス業界を記事で振り返る：政治に翻弄された1年に（2/4 ページ）ニコンが展望する10nm以下のリソグラフィ技術（前編）：SEMICON West 2015リポート(2)（3/3 ページ）ASML、EUVリソグラフィ開発を加速：SPIE Advanced Lithography 2017（1/2 ページ）Goldman Sachs Japanフォトリソグラフィ,エッチング5ナノメートル対応 EUVリソグラフィ向けフォトマスクプロセスを開発ニュースバル放射光施設静岡県立大学・大学院食品栄養環境科学研究院光環境生命科学研究室「SEMICON West 2016」、7nm世代以降のリソグラフィ技術（Samsung編）：福田昭のデバイス通信（91）（1/2 ページ）メディアに映っている姿: EUVリソグラフィEUVリソグラフィを補完する自己組織化リソグラフィ：福田昭のデバイス通信（293） Intelが語るオンチップの多層配線技術（14）（1/2 ページ）EUV露光用LDP光源技術IBMが10nm世代を飛び越えて7nmプロセスの半導体チップ試作に成功しムーアの法則が堅持される見込みフォトリソグラフィとは？その原理・工程・今後の展望について詳細を解説全5色で検証 紫外線カット効果が高い日傘の色とは ウェザーニュース【図解】ASMLのEUV露光技術と半導体微細化に向けた今後の戦略　～技術の基礎から収益構造まで詳しく解説原子層エッチングがEUVの確率変動を低減：5nmロジックへと導く（1/2 ページ）
View more

Share