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両極端

mercari beeant

Meaning

両極端 りょうきょくたん
noun (common) (futsuumeishi)
  • both extremes

Kanji

    • onyomiリョウ
    • kunyomiてるふたつ
    • meaningboth; old Japanese coin; counter for carriages (e.g., in a train); two
    • onyomiキョクゴク
    • kunyomiきわ.めるきわ.まるきわ.まりきわ.みき.める-ぎ.めき.まる
    • meaningpoles; settlement; conclusion; end; highest rank; electric poles; very; extremely; most; highly; 10**48
    • onyomiタン
    • kunyomiはしはた-ばたはな
    • meaningedge; origin; end; point; border; verge; cape

Sentences

  • Japanese むろん、この両極端の間に多くのバリエーションがある。
    English Obviously there are many variations between these two extremes.
  • Japanese 両極端は一致する。
    English Extremes meet.

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両端曲げみぞメモ  データ構造とプログラミング(’18):テキスト目次キュー [Queue]山に野に川に呑みに使い勝手抜群 [RIDGE MOUNTAIN GEAR Travel Pouch Plus (Translucent / JUN OSON)]コメントJavascriptで両端キュー(ArrayDeque)を実装してみた説明上の特記事項Javascriptの配列型は左側から追加(unshift)・削除(shift)が遅いこれで起こる問題早いキューを作るキューはできたけど両端キューではないので作る処理時間副産物考えられる不都合終わりにキューのデータ構造QED(キューイーディー)Revelation Speaker Cable (3.0m両端バナナプラグ仕様)両端 ゴムカバー付アースクリップ(MC300) ケーブル WCT 38 黒5M口の両端をつい引いてしまうときにエアー分岐コック 三又 3分岐 真鍮メッキ|kaumoレビューメディア「ジグソー」ワイヤレスキーボード受信ドングルの位置変更による通信環境改善を狙ってAtCoder Beginner Contestに必要な知識 ~解説と実装~計算量データ構造動的計画法 (Dynamic Programming: DP)探索アルゴリズムグラフ数学その他C++の楽な記法とABC用テンプレートあとがき10nmプロセスの実現に光、EUVリソグラフィ技術に進展:課題は山積だが、着実に前進(2/2 ページ)原子層エッチングがEUVの確率変動を低減:5nmロジックへと導く(2/2 ページ)サイバーニュース【半導体】サムスン、EUVリソグラフィによる7nmチップの製造を開始コメントするIBMが10nm世代を飛び越えて7nmプロセスの半導体チップ試作に成功しムーアの法則が堅持される見込みフォトリソグラフィ6つの工程とは?【半導体プロセス】フォトリソグラフィのいろは ~PEB編~極端紫外線リソグラフィ装置の世界市場規模、シェア、産業動向分析レポート:装置別(光源(レーザー生成プラズマ、真空スパーク、ガス放電)、ミラー、マスク)、地域別展望と予測、2022年~2028年星を見る・宇宙を知る・天文を楽しむ AstroArts天文ニュース太陽探査機「ひので」試験観測画像の公開「SEMICON West 2016」、7nm世代以降のリソグラフィ技術(ニコン編):福田昭のデバイス通信(86)(2/2 ページ)グレイスケールリソグラフィ&ワークショップフォトリソグラフィについてフォトリソグラフィナノインプリント・リソグラフィ(NIL)装置「EUV(極端紫外線)」関連の最新 ニュース・レビュー・解説 記事 まとめ撥油フォトレジストの解説と事例紹介7nmプロセスの開発が加速、EUVの導入も現実的に:ファウンドリー各社の動向(1/2 ページ)殺菌用「水銀ランプ」に代わる低コスト「深紫外LED」を開発!いろいろな紫外線「ムーアの法則」の限界を回避できる期待の製造技術「EUVリソグラフィ」とは?極端紫外線レーザーにより熱影響が極めて少ない材料加工を実現極端紫外線レーザーにより熱影響が極めて少ない材料加工を実現2019年のエレクトロニクス業界を記事で振り返る:政治に翻弄された1年に(2/4 ページ)ニコンが展望する10nm以下のリソグラフィ技術(前編):SEMICON West 2015リポート(2)(3/3 ページ)ASML、EUVリソグラフィ開発を加速:SPIE Advanced Lithography 2017(1/2 ページ)Goldman Sachs Japanフォトリソグラフィ,エッチング
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