Category:半導体製造

日本マイクロニクス

プラズマCVD
Plasma-enhanced chemical vapor deposition
微細加工技術
Microfabrication
原子層エッチング
Atomic layer etching
チョクラルスキー法
Czochralski methodテストパターン

基板工程
Front end of line
High-κ絶縁体
High-κ dielectric
ナノインプリント・リソグラフィ
Nanoimprint lithography
集束イオンビーム
Focused ion beam
不純物
Chemical impurity
テスト対象デバイス
Device under test
ダイボンダ

プリンテッド・エレクトロニクス
Printed electronicsサリサイド
Salicide
ウェハー
Wafer (electronics)
拡散ポンプ
Diffusion pump
SOI
Silicon on insulator
混合ガス
Gas blending for scuba diving
熱酸化
Thermal oxidation
半導体の低消費電力技術

ドープ
Doping (semiconductor)
セカンドソース
Second sourceメゾスコピック領域
Mesoscopic physicsSU-8
SU-8 photoresist
SiP
System in a package
テープアウト
Tape-out
回路配置利用権